2008年6月2日

 

温室効果ガス（ＧＨＧ）分解処理設備の設置を決定
〜ＧＨＧのさらなる削減により地球環境の保全に貢献〜

 

  昭和電工株式会社（社長：高橋恭平）は、当社グループによる環境負荷低減のため、温室効果ガス（Greenhouse Gas、以下ＧＨＧ）の削減に取り組んでいます。さらに本施策を進めるために、このたび川崎製造所（川崎市）にＧＨＧ分解処理設備の設置を決定いたしました。設備の運転開始は2009年3月を予定しています。これにより、当社グループは、排出権を購入することなく、京都議定書で定められた6％削減目標を自力で達成することを確実といたします。

 

  これまでも当社川崎製造所では、ＰＦＣガス（注1）やＨＦＣガス（注2）の製造・充填工程において一部排出されるこれら温室効果ガス（ＧＨＧ）の削減に取り組んでまいりました。今回、さらに徹底した削減を行うために、排出ガスを捕集し、回収及び燃焼分解する設備を追加設置いたします。これにより、同製造所のPFCガスとHFCガスのほぼ全量を削減することが可能となり、さらに分解処理設備において回収されるフッ素化合物の大部分を化学原料として再び有効活用することができます。

 

  当社グループでは、本施策のほかに設備の省エネルギー化、事業所の緑化強化などの対策を進めており、京都議定書の取り組み期間である2008年度から2012年度の5年間平均における削減目標を自力で達成いたします。また、2020年、2050年の中長期のＧＨＧ削減についても、今後、重点課題として検討してまいります。

 

  なお、本設備の設置は、（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）より、平成20年度「地域地球温暖化防止支援事業（代替フロン等3ガス対策）」として採択されております。

 

以上

 

（注1）　ＰＦＣガス：半導体等の製造工程でエッチングや洗浄に用いられる代替フロンガスの一種。炭素とフッ素から構成される化合物。

（注2）　ＨＦＣガス：冷媒に用いられる代替フロンガス。炭素、水素、フッ素から構成される化合物。

 

 

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