千葉事業所

千葉事業所は1961年よりアルミ精錬工場として事業をスタートさせ、時代とともに生産品も変わり、現在はハードディスクメディアの開発・生産とSiCパワー半導体の材料であるSiCエピウェハーの開発を行う（株）レゾナック・エレクトロニクス、ナノプロセス・薄膜プロセスの研究開発を行う融合製品開発研究所（千葉Ｇ、薄膜プロセスＧ）と一体運営しています。

ハードディスクメディアはパソコンやデータセンター向けハードディスクドライブ（HDD）、外付けHDD、HDDレコーダー、監視カメラなど幅広く使用されている大容量記録媒体です。
5GやIoT、クラウドサービス、デジタルトランスフォーメーションの拡大により、デジタル情報は今後もますます増え続け、これに伴い大容量の記録媒体が必要とされてきています。

SiCパワー半導体は現在主流のシリコン製に比べ高電圧特性や、大電流特性に優れ、電力損失も大幅に削減できることから、電力制御に用いるモジュールの高効率化を実現する製品として市場が拡大しています。
電気自動車に搭載される充電器及び高速充電スタンド、鉄道車両への採用が進んでいるほか、2020年代前半には電気自動車のパワーコントロールユニット（PCU）への本格搭載が見込まれ、今後さらなる需要拡大が期待されています。

私たちは世界をリードする最先端の技術力で、常に“Best in Class”の製品をお客様に提供し、ハードディスクメディア、SiCエピウェハーを通じて、拡大進化を続けるデジタル化社会、低炭素・脱炭素化社会の実現に貢献していきます。