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ニュースリリース

MOCVD原料用キレート金属錯体の量産化技術を開発(世界初)

2002年5月29日

昭和電工株式会社(大橋光夫社長)は、半導体製造工程、ディスプレーパネル製造工程等、エレクトロニクス分野で広く用いられる、MOCVD法(有機金属気相法)の新しい成膜材料として幅広い用途が期待される、ジピバロイルメタナト金属錯体(DPM錯体)の量産化技術開発に世界で初めて成功し、サンプル供給を開始いたしました。

DPM錯体は通常の有機金属化合物に比べて蒸気圧が高いため、200℃程度の低温で蒸発し、酸素の存在下で容易に分解し金属酸化物を生成する、MOCVD法の成膜原料として高い性能を有します。また、ほとんどの金属元素はDPMと錯体(金属と有機化合物の複合体)を形成するため、自由に多種類の金属酸化物を成膜することが可能であるという、優れた性能を発揮する物質です。
しかしこれまで、DPM錯体の量産方法は確立されておらず、工業的に使用されることが極めて稀な高価な材料でした。当社は長年にわたりEDTA、生分解性キレート剤GLDAをはじめとする各種キレート剤の製造・販売で培った独自の有機合成、金属錯体合成技術を活かし、世界で初めてDPM錯体の量産化技術の開発に成功いたしました。
これにより、高価であるという問題点を解消し、高品質かつ低コストで、各種金属錯体のラインアップが可能となりました。

DPM金属錯体はPDP、FED等のフラットパネルディスプレイ用蛍光体、半導体プロセスにおける強誘電体膜、絶縁膜、電極膜等の原料として、エレクトロニクス分野で幅広い用途が期待できるため、飛躍的な市場の拡大が予想されます。
当社は、既にHf(ハフニウム)、Zr(ジルコニウム)、Ru(ルテニウム)、Cu(銅)、Y(イットリウム)、Ba(バリウム)、La(ランタン)、Tb(テルビウム)、Eu(ユーロピウム)、Tm(ツリウム)等のDPM錯体をラインアップしており、売上高は3年後に10億円を見込んでおります。

当社は、現在推進中の連結中期経営計画「チータ・プロジェクト」とそれに続く「プロジェクト・スプラウト」において、「ITネットワークライフ」をターゲット市場と定め、成長戦略事業である特殊化学品事業に経営資源を集中投入しております。
特殊化学品事業は、今後とも世界トップレベルの技術水準とユニークな独自製品開発を目指し、積極的な事業展開を図ってまいります。

以上

■お客様お問い合わせ先
昭和電工(株)特殊化学品事業部精密化学品部 044-329-0726