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ニュースリリース

第16回 化学・バイオつくば賞を受賞

2008年5月16日

~ハロゲンフリー技術を基盤とする環境にやさしい絶縁保護膜用樹脂の開発~

昭和電工株式会社(社長:高橋 恭平)は、独立行政法人産業技術総合研究所と共に、化学・バイオつくば財団より、第16回化学・バイオつくば賞を授与されました。受賞対象は、「過酸化水素によるクリーン酸化技術を基盤とする革新的絶縁用樹脂の開発」です。

この研究開発の成果により、最先端エレクトロニクス分野向けの高性能材料を、塩素化合物を使用せずまた廃棄物の発生を抑制して生産することから、環境負荷の低減が可能となります。

絶縁用樹脂は、大型液晶ディスプレーや携帯電話などのあらゆる電子回路を被覆し保護する材料として使用されています。従来の樹脂には塩素化合物が含まれていることから、その経年劣化により塩化水素が発生し、電気絶縁性が損なわれて電子回路の微細配線がショートする問題が生じていました。一方、電気絶縁性向上のために耐熱性を高めると、樹脂の柔軟性が低下しその用途が限られてしまう欠点がありました。

今回、塩素化合物に代えて過酸化水素を使用し、新たに開発した硬化剤を組み合わせることにより、従来品に比較して100倍以上の絶縁性を安定的に長期間維持し、あわせて高い柔軟性をもつ革新的な電気絶縁保護膜用樹脂の開発に成功しました。製造時に環境汚染物質の排出が伴わないことも大きな特長です。今後当社は、微細配線が求められるエレクトロニクス分野向けにサンプル配布を行ない、マーケティング活動を開始いたします。

化学・バイオつくば財団は、化学・バイオ関連技術創出のための研究開発支援や同分野の産官連携を促進させ、わが国の産業発展へ寄与することを目的とした財団法人であり、化学・バイオ関連分野の研究における顕著な業績に対して毎年表彰を行っています。今回の受賞は、本樹脂が将来の産業の発展に大きく寄与することが高く評価されたものです。なお、表彰式および受賞記念講演会は、5月20日につくばにおいて行われる予定です。

以上

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