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ニュースリリース

半導体材料ガス関連事業の強化について

2009年8月27日

~排ガス処理装置の製作・メンテナンス・技術サービス等の業務を新会社へ委託~

昭和電工株式会社(社長:高橋 恭平)は、半導体や液晶パネル等の製造時に発生する排ガスの処理装置(以下、排ガス処理装置)事業強化のため、運営体制を9月より変更し、新たに設立した当社80%出資の子会社「株式会社クリーンエス昭和(以下、新会社)」に付帯業務を委託いたします。

これまで排ガス処理装置の製作およびメンテナンスについては、株式会社ホクティ(社長:鈴木 正喜、本社:神奈川県大和市)へ委託しておりましたが、今後の一層の事業強化のため、これまでホクティへ委託していた業務に加え、当社が行っていた排ガス処理装置内にある除害筒への薬剤充填作業や技術サービス業務を新会社に委託します。なお、排ガス処理装置の販売や技術サービスの受付等は、引き続き当社が行います。

当社は今般の運営体制の改定により、営業やメンテナンス等の窓口を一本化し、お客様のニーズにより一層、迅速かつ的確にお応えできる体制といたします。これにより、当社の半導体材料ガス事業の一環として本事業の強化を図ってまいります。

以上

【ご参考】

1.排ガス処理装置の概要

半導体や液晶パネル等を製造するためには、パーフルオロカーボン類(PFC)(注)、六フッ化硫黄(SF6)、三フッ化窒素(NF3)、塩素(Cl2)、臭化水素(HBr)等の半導体材料ガスが使用されますが、環境対応上、使用後のこれらのガスの処理が必要となります。当社では、PFC、SF6、NF3ガスを薬剤と化学反応させて分解処理する「クリーンエス®PFシリーズ」と、Cl2、HBrガスを薬剤に吸着処理する「クリーンエス®Zシリーズ」の製品を販売しています。

特に「クリーンエス®PFシリーズ」は排ガス中のフッ素分を除害筒に充填した薬剤と化学反応させて固定する方式(分解反応方式)を採用しており、他社の排ガス処理装置(触媒方式、燃焼方式、プラズマ方式)と比較して以下の特長を有しております。

  • 1.他の方式において副次的に発生する酸性ガスのアルカリによる中和やそのアルカリ性排水の処理が不要。したがって装置の運転には用水も不要
  • 2.排ガス処理温度が600度以下と他の方式に比べ低く省エネルギーであること
  • 3.排ガスの種類にかかわらず、PFC分解効率が99%以上と高いこと
  • 4.装置稼動時のエネルギー負荷が最小レベルであること

当社は、日本で初めて分解反応方式の排ガス処理装置を2000年に販売開始し、これまでに約400台の納入実績を有しております。

(注)パーフルオロカーボン類(PFC):水素や塩素を含まないフッ化炭素系化合物。二酸化炭素(CO2)、メタン(CH4)、亜酸化窒素(N2O)、六フッ化硫黄(SF6)等と同様に、京都議定書において地球温暖化ガスとして削減対象とされています。

2.新会社概要

(1)社名 株式会社クリーンエス昭和
(2)本社所在地 川崎市川崎区(昭和電工 川崎事業所内)
(3)資本金 50百万円
(4)設立 2009年4月
(5)営業開始 2009年9月(予定)
(6)出資構成 昭和電工80%、株式会社ホクエツ20%
(7)事業内容 排ガス処理装置の製作、除害筒への薬剤の充填・詰め替え(抜出・再充填)、メンテナンス、技術サービス
(8)従業員数 7名
(9)代表者 代表取締役社長 新井 龍晴(昭和電工 化学品事業部 情報電子化学品部長)

3.株式会社ホクティ概要

(1)本社所在地  神奈川県大和市
(2)資本金 50百万円
(3)設立 1999年11月
(4)出資構成 株式会社ホクエツ100%(予定)
(2009年8月31日までは、ホクエツ51%、昭和電工ならびにそのグループ会社あわせて49%)
(5)事業内容 ガス関連装置、環境関連機械装置、微酸性電解水関連機器の設計・製作・販売等
(6)代表者 代表取締役社長 鈴木 正喜

4.運営体制変更の概要

5.昭和電工のクリーンエス®PFシリーズの外観

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