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ニュースリリース

半導体・液晶パネル材料ガスの処理装置事業の強化

2010年5月25日

-(株)日立製作所より触媒式ガス処理装置事業を譲り受け、当社分解反応式処理装置事業との相乗効果を追求-

 昭和電工株式会社(社長:高橋 恭平)は、半導体や液晶パネルの製造工程で使用した後のPFC(パーフルオロカーボン)ガス類(※1)を処理する装置(以下、PFC排ガス処理装置)の一層の事業強化を図るために、本年6月までに株式会社日立製作所(執行役社長:中西 宏明、以下、日立)より、大型液晶パネル等の生産ライン向けに適した大型機をはじめとする全ての触媒式PFC排ガス処理装置事業を譲り受けます。当社の中・小型半導体生産ライン向けの分解反応式PFC排ガス処理装置事業との相乗効果により、本事業の拡大強化を図り、当社は2015年にPFC排ガス処理装置の売上高30億円を目指します。

 半導体や液晶パネルの製造においてはPFCガスが使用されますが、これらは地球温暖化ガスであるため、使用後の残留ガス(以下、排ガス)の処理が必要となります。現在、当社が販売するPFC排ガス処理装置は、排ガス中のフッ素成分を処理装置内の薬剤と化学反応させて固定する方式(分解反応式)を採っています。分解反応式以外のPFC排ガス処理装置(触媒式、燃焼式、プラズマ式)では、排ガスを処理する過程で生じたフッ素化合物を水やアルカリ化合物にそれぞれ吸収・中和するための設備やその排水の処理が必要となります。分解反応式では、それらが不要であるため、設備全体を小さくすることができるといった特長があります。一方、分解反応式は、液晶や半導体の製造工程で使用されるPFCガス量の増大に対して、排ガス処理能力が不足する問題点がありました。

 当社は、分解反応式PFC排ガス装置を2000年の販売開始以来、400台以上販売し、着実に本事業を育成してまいりましたが、このたび日立より触媒式PFC排ガス処理装置事業を譲り受けることにより、分解反応式では事業展開が難しかった大型液晶パネル向け分野へ進出し、本事業の拡大を図ります。

 当社は、排水処理での用水使用量を大幅に削減し、かつフッ素成分を装置内で固定化する分解反応式・触媒式の技術を組み合わせたハイブリッド式排ガス処理装置を開発中であり、さらに排ガス中のフッ素成分をフッ素の原料等に利用可能な状態のフッ化カルシウム(合成蛍石)として回収することを目指しております。当社は、このハイブリッド式排ガス処理装置の販売を、2011年より開始することによる事業強化も図ります。

 今回譲り受ける大型液晶パネル向けの触媒式または現在開発中のハイブリッド式排ガス処理装置は、1台あたりPFCガスを二酸化炭素(CO2)に換算して年間70万トン(※2)処理できます。これらを品揃えに加えることにより、パワー半導体など超小型半導体生産システム向けにも適した分解反応式 PFC排ガス処理装置から、大型液晶パネルなど超大型生産ライン向けの触媒式またはハイブリッド式排ガス処理装置まで、広くお客様のニーズに対応してまいります。

 当社は、今後ともCO2削減や資源枯渇などの地球規模の環境問題の解決への貢献を目指し、  環境配慮型製品の開発と更なる性能の向上に努めてまいります。

以上

  • ※1PFC(パーフルオロカーボン)ガス類(Perfluorocarbon):
    水素や塩素を含まないフッ化炭素系化合物および六フッ化硫黄(SF6)等を指します。二酸化炭素(CO2)、メタン(CH4)、亜酸化窒素(N2O)と同様に、京都議定書において地球温暖化ガスとして削減対象とされています。
  • ※2以下の条件にて、1日24時間稼動の年間360日運転を行うと、年間で約30トンのPFCガスを処理できます。これは、CO2換算で約70万トンに相当します。
  • 1.処理対象ガス:SF6
  • 2.排ガス処理量:3,000リットル毎分
  • 3.排ガス濃度:3,000ppm
  • 4. 分解率:99%

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