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ニュースリリース

液晶パネル向け低環境負荷型高純度ガス設備の新設

2011年1月11日

 

 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、このたび、液晶パネル向け低環境負荷型の高純度COF2(フッ化カルボニル)製造設備の建設を東長原事業所(福島県会津若松市)において開始いたしました。設備の年産能力は400トンで、2011年7月を目処に完工の予定です。

 液晶パネルのガラス基板を加工する工程において、基板上に形成される薄い酸化膜や窒化膜等のエッチング(注1)には高純度のフッ素系ガスが使われます。COF2の地球温暖化係数の約1はほぼCO2と同じでありエッチング用ガスの代表例であるSF6(六フッ化硫黄)の同係数23,900と比較して小さいため、地球温暖化ガスの排出抑制に貢献することが期待されています。さらに、工程内に残留する使用後のガスの環境対応上の必要な処理についても、COF2の場合、加水分解により処理の容易なHF(フッ化水素)とCO2になることから、SF6やクリーニングガス(注2)の代表例であるNF3(三フッ化窒素)と比較すると処理コストや環境に与える負荷において少なく済むことが期待されています。しかしながらCOF2の高純度化には技術的課題が多くコストが高くなるといった障害により、これまでその普及は進んでいませんでした。

 当社では独自技術による合成法や精製技術の活用により、製造コストの低減、高純度化の実現といった課題を解決し、安定的にお客様に供給できる体制を整えました。今後、低環境負荷型のエッチング・クリーニングガスCOF2の普及に向けて注力いたします。

 当社は、中期経営計画「ペガサス」において、半導体やディスプレーなどのエレクトロニクス分野で使用される半導体高純度ガスを当社グループの成長を牽引する成長・育成分野に位置づけています。今後も環境に与える負荷の少ない製品の開発に注力し、製品のラインアップを充実させて本事業の一層の拡大強化を図ってまいります。

 

(注1)エッチング:基板上の薄膜に、微細な溝や孔を刻み電子回路等を作ること

(注2)クリーニング:成膜の工程で使われるCVD炉に付着する不要な化学物質を取り除くこと

以上

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IR・広報室 03‐5470‐3235