トップページ>ニュースリリース>2011>エレクトロニクス分野向けフッ素系高純度ガスの価格改定について

ニュースリリース

エレクトロニクス分野向けフッ素系高純度ガスの価格改定について

2011年7月14日

  昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、半導体等のエレクトロニクス分野で使用されるフッ素系高純度ガスの価格改定を以下のとおり行うことを決定し、このたびお客様との交渉を開始いたします。

〔価格改定の内容〕

(1)対象製品: 高純度FC-116(以下分子式、C2F6
高純度FC-14 (以下分子式、CF4
(2)値上げ幅: それぞれ500円/KG
(3)実施時期: 2011年8月1日以降納入分より適用

 C2F6は、半導体の製造において、シリコン基板の上を覆う薄膜を生成する際に、その工程で使われる製造設備内に付着する不要な化学物質を取り除くためのガス(クリーニングガス)として主に使われます。CF4は、半導体・液晶パネル・窒化ガリウム系LED・多結晶シリコン系太陽電池の製造において、基板の上を覆う薄い膜に、微細な溝や孔を刻みつけて電子回路等を作るためのガス(エッチングガス)として主に使われます。

 両製品の主原料であるフッ素系材料の価格が急騰し、製造コストは急上昇しております。これまで、生産効率の向上等によりコストダウンを進めてまいりましたが、自助努力での対応は限界に達しております。このため従来通りの安定供給継続のためには、お客様にコスト上昇分の一部のご負担をお願いせざるを得ないとの結論に至りました。


以上


◆ 報道機関お問合せ先:
IR・広報室   03-5470-3235