ニュースリリース

半導体用高純度ガス事業で韓国での合弁会社設立を決定
-半導体メモリの需要拡大に対応-

2016年12月19日

 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、韓国のSKマテリアルズ社(以下、SKM社)との間で、半導体の製造工程で使われる高純度ガスCH3F(モノフルオロメタン)の製造・販売を行う合弁会社を設立することで合意をしました。

 CH3Fは半導体の製造工程において、窒化膜の微細加工(エッチング)に使用される特殊ガスです。主に微細化を必要としたNANDフラッシュ、DRAM等の半導体メモリの製造工程で使用されています。CH3Fは他のガスに比べて高選択比が得られるため、積層化が進んでいる3D NAND工程の立ち上げ等の影響で、需要が増加しています。

 今般、当社は韓国SKグループの高純度ガス製造会社である SKM社と共同で会社を設立し、CH3Fの製造プラントを新設、販売を行うことについて、SKM社と基本合意に至りました。会社設立は17年2月、プラント建設完了は8月を予定しています。合弁会社設立後も両社共同の上、半導体・ディスプレイ用高純度ガスをさらに拡大する考えです。

 当社の電子材料用高純度ガス事業は40年近い歴史を持ち、長年培ってきた精製・分析・品質管理技術において高い評価をいただいています。また当社はフッ素系・塩素系・臭素系・アンモニア系といった多様な高純度ガスを製造・販売する世界唯一の企業として、お客様の製造工程に最適なガスを提案いたします。

 当社は、現在推進中の中期経営計画“Project 2020+”において、電子材料用高純度ガスを成長加速事業に位置づけております。当社は今後も、拡大する世界の電子材料市場に迅速に対応し、同事業の強化・拡大を図ってまいります。

以上

〈合弁会社の概要〉

社名 SK昭和電工株式会社
本社住所 大韓民国 慶尚北道 栄州市
設立日 2017年2月(予定)
資本金 210億 韓国ウォン(予定)
出資比率 昭和電工 49%、SKマテリアルズ 51%
事業内容 高純度ガス(CH3F)の製造・販売

◆ 報道機関お問合せ先:
広報室 03‐5470‐3235

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