エレクトロニクス : 電子材料用高純度ガス

高純度三塩化硼素
BCl3
代表製品名英語
boron trichloride
用途
エッチングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
TEL :044-520-1362
FAX :044-520-1366
高純度液化亜酸化窒素
N2O
主に、半導体の酸窒化膜形成時の材料ガスとして使用されます。
代表製品名英語
high purity liquified nitrous oxide
用途
膜成形ガス
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高純度塩素
Cl2
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
chlorine
用途
エッチングガス
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高純度アンモニア
NH3
エピタキシャル、膜成形ガスに利用される高品質の高純度材料ガスです。
代表製品名英語
ammonia
用途
エピタキシャル、膜成形ガス
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高純度HFC-23
CHF3
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
trifluoromethane
用途
エッチングガス
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高純度HFC-32
CH2F2
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
difluoromethane
用途
エッチングガス
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高純度HFC-41
CH3F
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
fluoromethane
用途
エッチングガス
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高純度FC-C318
C4F8
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
octafluorocyclobutane
用途
エッチングガス、クリーニングガス
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高純度FC-218
C3F8
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
octafluoropropane
用途
エッチングガス、クリーニングガス
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高純度FC-14
CF4
代表製品名英語
tetrafluoromethane
用途
エッチングガス、クリーニングガス
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高純度FC-116
C2F6
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
hexafluoroethane
用途
エッチングガス、クリーニングガス
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高純度臭化水素
HBr
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
hydrogen bromide
用途
エッチングガス
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高純度六弗化硫黄
SF6
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
sulfur hexafluoride
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エッチングガス、クリーニングガス
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高純度三弗化窒素
NF3
代表製品名英語
high purity nitrogen trifluoride
用途
クリーニングガス
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高純度FC-2316
NF3
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高純度の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
hexafluoro-1,3-butadiene
用途
クリーニングガス
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TEL :044-520-1362
FAX :044-520-1366
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製品説明

電子材料ガスの分野で確かな地位を築き上げてきた昭和電工。
昭和電工の蓄積する卓越したテクノロジー(合成化学・科学分析)を駆使して製造・供給している電子材料ガス。
昭和電工はこの製品群を日本国内はもとより世界の電子材料マーケット展開、その高性能は世界中のマイクロデバイス製造メーカーに高く評価されています。
電子材料ガスのリーディングメーカーである昭和電工は、技術革新による新しい製品の開発と、お客様への最高のサービスを提供することにより高度情報化社会の発展へ貢献し続けることを願っています。

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