エレクトロニクス

高純度HFC-23
CHF3
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
trifluoromethane
用途
エッチングガス
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ファイン製品部
TEL :044-520-1362
FAX :044-520-1366
高純度HFC-32
CH2F2
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
difluoromethane
用途
エッチングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
TEL :044-520-1362
FAX :044-520-1366
高純度HFC-41
CH3F
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
fluoromethane
用途
エッチングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
TEL :044-520-1362
FAX :044-520-1366
高純度FC-C318
C4F8
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
octafluorocyclobutane
用途
エッチングガス、クリーニングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
TEL :044-520-1362
FAX :044-520-1366
高純度FC-218
C3F8
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
octafluoropropane
用途
エッチングガス、クリーニングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
TEL :044-520-1362
FAX :044-520-1366
高純度FC-14
CF4
代表製品名英語
tetrafluoromethane
用途
エッチングガス、クリーニングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
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高純度FC-116
C2F6
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高品質の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
hexafluoroethane
用途
エッチングガス、クリーニングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
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FAX :044-520-1366
高純度三弗化窒素
NF3
代表製品名英語
high purity nitrogen trifluoride
用途
クリーニングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
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高純度FC-2316
C4F6
エッチングガス、クリーニングガスに利用される高純度の半導体材料ガスです。
代表製品名英語
hexafluoro-1,3-butadiene
用途
クリーニングガス
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情報電子化学品事業部 ファイン製品部
TEL :044-520-1362
FAX :044-520-1366
金属表面処理「クリーンエス処理」
金属表面処理 (耐食性、耐摩耗性材料)
ガスボンベ、シリンダー(ボンベ)バルブ、配管、圧力調整器、ガス流量計、ラインバルブ、プロセスチャンバーなどの金属表面に、腐食性ガス雰囲気に対する耐食性を付与します。またその他用途として、摺動機械部品に対する耐摩耗効果、ゴム金型等における高離型性、型汚れの低減効果を保有するタイプ等、各種用途に応じ様々な表面処理を開発し提供しています。
用途
ボンベ・配管(耐食性)や摺動部品(耐摩耗性)などの各種用途
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情報電子化学品事業部 ファイン装置グループ
TEL :044-520-1364
FAX :044-520-1366
触媒式PFC(地球温暖化ガス)除害装置
HICDS
エッチング工程から排出されるPFCなどのガスを、触媒式ならではの高い安全性・経済性を生かし効率よく分解します。
代表製品名英語
PFC CATALYTIC DECOMPOSITION SYSTEM
用途
半導体製造工程ドライエッチング廃ガスの触媒式PFC除害装置。除害対象ガスはPFC、SF6、NF3(GHG/地球温暖化ガス)。
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情報電子化学品事業部 ファイン装置グループ
TEL :044-520-1364
FAX :044-520-1366
乾式PFC(地球温暖化ガス)除害装置
クリーンエスPF
分解反応剤を用いてPFCガスを加熱分解し除害する、化学反応方式を採用した水処理不要の乾式除害装置です。
代表製品名英語
PFC CHEMICAL CAPTURE SYSTEM
用途
半導体製造工程ドライエッチング廃ガスの乾式(薬剤交換式)PFC除害装置。
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情報電子化学品事業部 ファイン装置グループ
TEL :044-520-1364
FAX :044-520-1366
酸性ガス除害装置
クリーンエスZ
塩素、臭化水素などのドライエッチング廃ガスを乾式充填剤によって処理します。
代表製品名英語
DRY-ETCHING GAS TREATMENT SYSTEM
用途
半導体製造工程ドライエッチング廃ガスの乾式除害装置。対象:Cl2、HBr、HF等
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情報電子化学品事業部 ファイン装置グループ
TEL :044-520-1364
FAX :044-520-1366
ソルファイン®電子デバイス用リンス溶剤
電子デバイス用リンス溶剤
レジスト剥離後のリンスや、ワックスの洗浄に優れた混合有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
レジストやポリイミド関連製品の溶剤や洗浄
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
γ-ブチロラクトン
GBL
レジストやポリイミド関連製品の溶剤や洗浄に利用されます。
代表製品名英語
γ-butyrolactone
用途
レジストやポリイミド関連製品の溶剤や洗浄
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®電子デバイス用クリーナー溶剤
電子デバイス用クリーナー溶剤
ワックスや樹脂の溶解力に優れた、炭化水素やグリコールエーテル等の混合溶剤です。電子デバイスの洗浄に使用されます。
代表製品名英語
solfine
用途
ワックスや樹脂の洗浄
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®液晶用
電子ディスプレイ製造工程用洗浄剤
レジストの洗浄やリンス性能に優れた単一/混合有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
レジストの洗浄やリンス
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®剥離剤
剥離剤
半導体フォトリソ工程でのドライエッチング時に発生するレジスト変質膜(サイドウォールポリマー、デポ、残渣)を除去するための剥離液です。エッチング装置部品の洗浄にもご使用いただけます。
代表製品名英語
solfine
用途
レジスト変質膜の剥離、半導体製造装置の洗浄
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®レンズ洗浄剤
レンズ洗浄剤
研磨材や、ピッチ・保護膜の洗浄に利用されます。汚れ成分に対する優れた洗浄性を有しています。界面活性剤等の残渣となるものを添加しておらず、蒸留再生も可能です。
代表製品名英語
solfine
用途
レンズの洗浄
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®プリント基板用
プリント基板用洗浄剤
フラックス洗浄に適した炭化水素系/グリコールエーテル系の混合有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
プリント基板の洗浄
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
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