フラックス洗浄に適した炭化水素系／グリコールエーテル系の混合有機溶剤です。

半導体やFPD製造時のフォトリソグラフィー工程で使用される、レジストの溶解力やリンス性に優れた有機溶剤です。

レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。

液晶・半導体の洗浄用高純度溶剤です。本製品を過酸化水素水に添加することで、Ti、W、TiW、TiNの長寿命なエッチングが実現します。

レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。

レジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒としてご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。

電子工業向け高純度薬品（ポジ型フォトレジスト用現像液）のTMAHを幅広い用途に展開するため、工業用グレードを開発しました。使用済みポジ型フォトレジスト現像液を原料として製造するため、電子工業用TMAHと比較し、お客様にコストメリットを提供します。原料中に含まれるレジスト成分を選択的に除去するため、物性は電子工業用TMAHと変わりません。

導電性高分子を主な成分とするチャージアップ防止膜形成材料です。塗膜は高い電子伝導性を示し、電子線リソグラフィーをはじめとする荷電粒子線照射プロセスにおいて、チャージアップによって生じる諸問題の解決が期待できます。