エレクトロニクス

ソルファイン®フォトレジスト用
フォトレジスト用溶剤
半導体やFPD製造時のフォトリソグラフィー工程で使用される、レジストの溶解力やリンス性に優れた有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
フォトレジスト用溶媒
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
PGMEA
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
propyleneglycol monomethyl ether acetate
用途
レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤など
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®-SE-TW10/A
液晶・半導体の洗浄用高純度溶剤です。本製品を過酸化水素水に添加することで、Ti、W、TiW、TiNの長寿命なエッチングが実現します。
代表製品名英語
Solfine-SE-TW10/A
用途
Ti, W, TiW ,TiNのエッチング
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
PGME
プロピレングリコールモノメチルエーテル
レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
propyleneglycol monomethyl ether
用途
レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤など
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
N-メチル-2-ピロリドン
NMP
レジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒としてご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
N-methyl-2-pyrrolidone
用途
レジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒など
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
工業用TMAH
テトラメチルアンモニウム=ヒドロキシド
電子工業向け高純度薬品(ポジ型フォトレジスト用現像液)のTMAHを幅広い用途に展開するため、工業用グレードを開発しました。使用済みポジ型フォトレジスト現像液を原料として製造するため、電子工業用TMAHと比較し、お客様にコストメリットを提供します。原料中に含まれるレジスト成分を選択的に除去するため、物性は電子工業用TMAHと変わりません。
代表製品名英語
Tetramethylammonium hydroxide
用途
洗浄液、触媒、吸収剤、pH調整剤
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特殊化学品部 ファンクショナルマテリアルズグループ
TEL :03-6402-5080
FAX :03-5403-5730
乳酸エチル
レジストや電子材料向けフィルムの溶媒等にご使用いただけます。
代表製品名英語
ethyl lactate
用途
レジストや電子材料向けフィルムの溶媒など
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情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ESPACER®
電子線描画用チャージアップ防止剤
導電性高分子を主な成分とするチャージアップ防止膜形成材料です。塗膜は高い電子伝導性を示し、電子線リソグラフィーをはじめとする荷電粒子線照射プロセスにおいて、チャージアップによって生じる諸問題の解決が期待できます。
代表製品名英語
ESPACER
用途
半導体製造(電子線描画時の帯電による画像の歪み防止用)
お問い合わせ
電子機能材プロジェクト
TEL :03-5470-3293
FAX :
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