エレクトロニクス
- ソルファイン®プリント基板用プリント基板用洗浄剤フラックス洗浄に適した炭化水素系/グリコールエーテル系の混合有機溶剤です。
- 代表製品名英語
- solfine
- 用途
- プリント基板の洗浄
- ソルファイン®フォトレジスト用フォトレジスト用溶剤半導体やFPD製造時のフォトリソグラフィー工程で使用される、レジストの溶解力やリンス性に優れた有機溶剤です。
- 代表製品名英語
- solfine
- 用途
- フォトレジスト用溶媒
- PGMEAプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートレジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
- 代表製品名英語
- propyleneglycol monomethyl ether acetate
- 用途
- レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤など
- ソルファイン®-SE-TW10/A液晶・半導体の洗浄用高純度溶剤です。本製品を過酸化水素水に添加することで、Ti、W、TiW、TiNの長寿命なエッチングが実現します。
- 代表製品名英語
- Solfine-SE-TW10/A
- 用途
- Ti, W, TiW ,TiNのエッチング
- PGMEプロピレングリコールモノメチルエーテルレジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
- 代表製品名英語
- propyleneglycol monomethyl ether
- 用途
- レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤など
- N-メチル-2-ピロリドンNMPレジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒としてご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
- 代表製品名英語
- N-methyl-2-pyrrolidone
- 用途
- レジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒など
- 工業用TMAHテトラメチルアンモニウム=ヒドロキシド電子工業向け高純度薬品(ポジ型フォトレジスト用現像液)のTMAHを幅広い用途に展開するため、工業用グレードを開発しました。使用済みポジ型フォトレジスト現像液を原料として製造するため、電子工業用TMAHと比較し、お客様にコストメリットを提供します。原料中に含まれるレジスト成分を選択的に除去するため、物性は電子工業用TMAHと変わりません。
- 代表製品名英語
- Tetramethylammonium hydroxide
- 用途
- 洗浄液、触媒、吸収剤、pH調整剤
- ESPACER®電子線描画用チャージアップ防止剤導電性高分子を主な成分とするチャージアップ防止膜形成材料です。塗膜は高い電子伝導性を示し、電子線リソグラフィーをはじめとする荷電粒子線照射プロセスにおいて、チャージアップによって生じる諸問題の解決が期待できます。
- 代表製品名英語
- ESPACER
- 用途
- 半導体製造(電子線描画時の帯電による画像の歪み防止用)