クリーンエス処理は弊社の半導体プロセスガスを供給する上でユースポイントまで使用されるガスの純度を維持する事を目的に、１９８４年の開発以来、被膜性能の改良に鋭意検討を加えた表面処理です。

ガスボンベ、シリンダー（ボンベ）バルブ、配管、圧力調整器、ガス流量計、ラインバルブ、プロセスチャンバーまでを表面処理する事によって、高純度のガスの供給を実現しております。（特許１６６９０４８号）

又、プロセスにおいて使用されたハロゲンを含む排ガスを流通させる排気配管、フレキシブルホース、排ガス用真空ポンプ、除害装置に至るまでの機器を耐食表面処理する事によってそのライフを大きく延ばす事が出来ます。

現在の使用用途は、腐食性ガス雰囲気に対する耐食性を付与する事以外の特性用途として摺動機械部品に対する耐摩耗効果、ゴム金型等における高離型性、型汚れの低減効果を保有するタイプ等、各種用途に応じ様々な表面処理を開発し提供しております。