半導体製造装置用 金属表面処理
クリーンエス処理
製品基本情報
製品概要
無電解めっき法を用いて、半導体製造装置の金属表面にNi合金系被膜を多層に積層成膜する処理です。
表面処理により、腐食性ガス雰囲気に対する耐食性、摺動機械部品に対する耐摩耗効果、ゴム金型等における高離型性、型汚れの低減効果など、各種特性を発現します。
- ※ 画像は表面処理後のボンベ内面
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受付時間 平日9時～18時（土日・祝日・当社指定の休業日を除く）
メリット
- めっきの多層膜形成により、通常の無電解Niめっきより耐食性に優れ、部品を腐食から保護
- 高い摩耗性や離型性を発揮することが可能
処理の種類
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