高純度FC-2316(C4F6)

製品基本情報

製品概要

半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。
特に酸化膜のエッチングに適しています。

FC-2316

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メリット

  • 高アスペクト比でのエッチングが可能
  • 業界トップクラスの生産量であり、強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
  • 他エッチングガスに比べ、地球温暖化係数が低い(GWP値≦1)
  • 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
  • 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート

特性値

性状及び分類

外観・臭気/無色無臭の気体 国連番号/3160
CAS NO/685-63-2 液化ガス
  • 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。

C4F6の物理・化学的性質

項目 データ
物理状態 気体
外観 液化ガス
無色透明
pH 該当しない
融点 -132.1 ℃
沸点 5.4 ℃
臨界温度 139.6 ℃
自然発火点 490 ℃
蒸気圧

0.178 MPa(20 ℃)

0.473 MPa(50 ℃)

相対蒸気密度 (20 ℃) 5.6(空気=1)
相対密度

1.434 (20 ℃) /飽和

爆発範囲 (上限、下限) (g/m³)

下限:5vol %

上限:27vol %(室温、101.3 kPa、空気中)

但し、酸素不存在下でも、圧力 0.61 MPa、温度 60 ℃でニクロム線溶断により11.7 Jのエネルギーを与えると圧力上昇を伴い分解し、CF4とC(炭素)を生成するというデータがある。

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