エレクトロニクス : エッチング廃ガス除害装置

酸性ガス除害装置
クリーンエスZ
塩素、臭化水素などのドライエッチング廃ガスを乾式充填剤によって処理します。
代表製品名英語
DRY-ETCHING GAS TREATMENT SYSTEM
用途
半導体製造工程ドライエッチング廃ガスの乾式除害装置。対象:Cl2、HBr、HF等
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ファイン装置グループ
TEL :044-520-1364
FAX :044-520-1366
触媒式PFC(地球温暖化ガス)除害装置
HICDS
エッチング工程から排出されるPFCなどのガスを、触媒式ならではの高い安全性・経済性を生かし効率よく分解します。
代表製品名英語
PFC CATALYTIC DECOMPOSITION SYSTEM
用途
半導体製造工程ドライエッチング廃ガスの触媒式PFC除害装置。除害対象ガスはPFC、SF6、NF3(GHG/地球温暖化ガス)。
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ファイン装置グループ
TEL :044-520-1364
FAX :044-520-1366
乾式PFC(地球温暖化ガス)除害装置
クリーンエスPF
分解反応剤を用いてPFCガスを加熱分解し除害する、化学反応方式を採用した水処理不要の乾式除害装置です。
代表製品名英語
PFC CHEMICAL CAPTURE SYSTEM
用途
半導体製造工程ドライエッチング廃ガスの乾式(薬剤交換式)PFC除害装置。
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ファイン装置グループ
TEL :044-520-1364
FAX :044-520-1366
  • 1ページ

製品検索