半導体フォトリソ工程でのドライエッチング時に発生するレジスト変質膜（サイドウォールポリマー、デポ、残渣）を除去するための剥離液です。エッチング装置部品の洗浄にもご使用いただけます。

研磨材や、ピッチ・保護膜の洗浄に利用されます。汚れ成分に対する優れた洗浄性を有しています。界面活性剤等の残渣となるものを添加しておらず、蒸留再生も可能です。

フラックス洗浄に適した炭化水素系／グリコールエーテル系の混合有機溶剤です。

半導体やFPD製造時のフォトリソグラフィー工程で使用される、レジストの溶解力やリンス性に優れた有機溶剤です。

レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。

液晶・半導体の洗浄用高純度溶剤です。本製品を過酸化水素水に添加することで、Ti、W、TiW、TiNの長寿命なエッチングが実現します。

レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。

レジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒としてご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。

電子工業向け高純度薬品（ポジ型フォトレジスト用現像液）のTMAHを幅広い用途に展開するため、工業用グレードを開発しました。使用済みポジ型フォトレジスト現像液を原料として製造するため、電子工業用TMAHと比較し、お客様にコストメリットを提供します。原料中に含まれるレジスト成分を選択的に除去するため、物性は電子工業用TMAHと変わりません。

レジストや電子材料向けフィルムの溶媒等にご使用いただけます。

レジスト剥離後のリンスや、ワックスの洗浄に優れた混合有機溶剤です。

レジストやポリイミド関連製品の溶剤や洗浄に利用されます。

ワックスや樹脂の溶解力に優れた、炭化水素やグリコールエーテル等の混合溶剤です。電子デバイスの洗浄に使用されます。

レジストの洗浄やリンス性能に優れた単一/混合有機溶剤です。