製品説明

電子工業向けのTMAH製造の技術を活かし、従来とは異なる製法により、TMAHを幅広い用途に展開するため、『工業用TMAH』を開発しました。

特長
使用済みポジ型フォトレジスト現像液を原料として工業用TMAHを製造するため、電子工業用TMAHと比較し、お客様にコストメリットを提供いたします。
原料中に含まれるレジスト成分を選択的に除去するため、物性は電子工業用TMAHと変わりません。

品質

主な用途

• 洗浄液：　アルコール等の溶媒および界面活性剤と混合することにより、無機アルカリ系洗浄剤と異なる性質を有する水系洗浄剤としてご利用いただけます。
• 触媒：　　使用後、加熱除去できるアルカリ触媒としてご利用いただけます。
• 吸収剤：　pHが低下してもスケールが発生しない酸性ガスの吸収剤としてご利用いただけます。
• pH調整剤：　有機酸のpH調整剤として金属成分を嫌う水溶液にご利用いただけます。

製品関連情報

性状

・構造式　：　［（CH3）４N］＋OH－　　（分子量：９１．１５）　 ・比　 重　：　１．０１５（25℃） ・ｐH　　　 ： １４ ・引火点　 ： なし　　 ・安定性　 ： 通常の取り扱い条件では安定。 ・反応性　 ： 酸との中和反応で発熱する。６０℃以上加熱等により分解する。

荷姿

標準　：　20Lポリエチレン製容器、200Lポリエチレン製パワードラム 　　

化審法番号

(2)-186

CAS Reg#

75-59-2

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