工業・産業

石油化学・ケミカル

ショウプレン®
クロロプレン
ショウプレン®は昭和電工が販売しているクロロプレンゴムの商品名です。耐油性・耐熱性・耐候性・難燃性の特長を持ち、自動車用部品や土木・建築・車両部品などに利用されます。
代表製品名英語
Showa Denko Chloroprene
用途
浸漬製品、接着剤、アスファルト改質、コーティング剤、一般工業用品、電線など
お問い合わせ
基礎化学品事業部 有機製品部 エラストマーグループ
TEL :044-520-1347
FAX :044-520-1349
GLDA®-4Na 40%水溶液
L-グルタミン酸二酢酸・四ナトリウム
工業用洗浄剤、家庭用・業務用洗剤添加剤に用いられる生分解性アミノポリカルボン酸型キレート剤です。
代表製品名英語
GLDA-4Na 40% aqueous solution
用途
工業用洗浄剤、家庭用・業務用洗剤添加剤
お問い合わせ
基礎化学品事業部 有機製品部 AN・有機製品グループ
TEL :044-520-1348
FAX :044-520-1349
アクリロニトリル
AN
アクリル繊維、合成樹脂等の原料、その他の原料に用いられます。
代表製品名英語
acrylonitrile
用途
アクリル繊維、合成樹脂等の原料、その他の原料
お問い合わせ
基礎化学品事業部 有機製品部 AN・有機製品グループ
TEL :044-520-1348
FAX :044-520-1349
エチレンジアミン四酢酸・四ナトリウム
エデト酸・四ナトリウム
石鹸洗剤添加物、金属工業助剤、写真薬に用いられます。
代表製品名英語
Ethylenediaminetetraaceticacid Tetrasodiumsalt
用途
石鹸洗剤添加物、金属工業助剤、写真薬
お問い合わせ
基礎化学品事業部 有機製品部 AN・有機製品グループ
TEL :044-520-1348
FAX :044-520-1349
エチレンジアミン四酢酸・四ナトリウム 38%水溶液
石鹸洗剤添加剤、金属工業助剤、写真薬に用いられます。
代表製品名英語
Aqueous solution of ethylenediamine tetraacetic acid tetrasodium salt(38% aqueous solution)
用途
石鹸洗剤添加剤、金属工業助剤、写真薬
お問い合わせ
基礎化学品事業部 有機製品部 AN・有機製品グループ
TEL :044-520-1348
FAX :044-520-1349
C5留分
C5
代表製品名英語
C5
用途
石油樹脂、香料等の原料
お問い合わせ
オレフィン部 製品販売グループ
TEL :03-5470-3527
FAX :03-3437-6647
芒硝
硫酸ナトリウム
合成洗剤、ガラス、紙パルプの製造などで配合されます。
代表製品名英語
sodium sulfate
用途
合成洗剤、ガラス、紙パルプの製造
お問い合わせ
基礎化学品事業部
TEL :044-520-1348
FAX :044-520-1349

特殊化学品材料

カレンズ MT®
多官能チオール
昭和電工が提供する2級多官能チオール。紫外線硬化の添加剤だけでなく、不飽和基含有樹脂やエポキシ樹脂、任意の反応性モノマーに対する架橋剤として使用されます。
代表製品名英語
Karenz MT
用途
インク、塗料、コーティング、接着剤、機能性フィルム、FRP、など
お問い合わせ
特殊化学品部 ファンクショナルマテリアルズグループ
TEL :03-6402-5080
FAX :03-5403-5730
カレンズAOI®
イソシアネートモノマー/2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート
同一分子内に重合性のあるアクリル基と、種々の活性水素化合物と反応可能なイソシアネート基を併せ持つ機能性モノマー。高い光重合性を利用して、レジスト、粘接着剤、印刷版、各種塗料、各種表面処理剤など幅広い用途に使用いただけます。
代表製品名英語
Karenz AOI
用途
レジスト(液体レジスト、フィルムレジスト、着色レジスト)、粘接着剤、印刷版、各種塗料、各種表面処理剤など
お問い合わせ
特殊化学品部 ファンクショナルマテリアルズグループ
TEL :03-6402-5080
FAX :03-5403-5730
カレンズMOI-BM®
ブロックイソシアネートモノマー/メタクリル酸 2-([1’-メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ)エチル
イソシアネートモノマー”カレンズMOI®”のイソシアネートをMEKオキシムで保護したタイプのモノマー。イソシアネート基が保護されているので、通常の条件では活性水素の存在下でも安定です。熱処理により脱ブロック化して活性なイソシアネート基を再生します。ウレタン系塗料の1液化、水系エマルジョン化や水溶性樹脂への応用が可能になります。
代表製品名英語
Karenz MOI-BM
用途
レジスト(液体レジスト、フィルムレジスト、着色レジスト)、粘接着剤、印刷版、各種塗料、各種表面処理剤など
お問い合わせ
特殊化学品部 ファンクショナルマテリアルズグループ
TEL :03-6402-5080
FAX :03-5403-5730
カレンズMOI-BP®
ブロックイソシアネートモノマー/2-[(3,5-ジメチルピラゾリル)カルボキシアミノ]エチルメタクリレート
イソシアネートモノマー”カレンズMOI®”のイソシアネートをピラゾールで保護したタイプのモノマー。イソシアネート基が保護されているので、通常の条件では活性水素の存在下でも安定です。熱処理により脱ブロック化して活性なイソシアネート基を再生します。ウレタン系塗料の1液化、水系エマルジョン化や水溶性樹脂への応用が可能になります。
代表製品名英語
Karenz MOI-BP
用途
レジスト(液体レジスト、フィルムレジスト、着色レジスト)、粘接着剤、印刷版、各種塗料、各種表面処理剤など
お問い合わせ
特殊化学品部 ファンクショナルマテリアルズグループ
TEL :03-6402-5080
FAX :03-5403-5730
カレンズBEI®
イソシアネートモノマー/1,1-(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート
種々の化合物と容易に結合するイソシアネート基1つと、重合性を有するアクリル基2つを同一分子内に持つことを特長としたイソシアネートモノマー。従来のカレンズ®シリーズより更に架橋密度を上げました。UV硬化性を高めたいニーズにお応えします。
代表製品名英語
Karenz BEI
用途
レジスト(液体レジスト、フィルムレジスト、着色レジスト)、粘接着剤、印刷版、各種塗料、各種表面処理剤など
お問い合わせ
特殊化学品部 ファンクショナルマテリアルズグループ
TEL :03-6402-5080
FAX :03-5403-5730
ポリ-N-ビニルアセトアミド
N-ビニルアセトアミド単独重合体
昭和電工が世界で初めて工業化に成功した機能性モノマー「N-ビニルアセトアミド」から誘導される水溶性高分子。水だけでなく、アルコールやジメチルスルホキシド(DMSO)といった極性溶媒にも溶解します。非イオン性ポリマーであるため塩やpHの影響を受けず、また耐候性が高く、特に熱に対する安定性があります。工業的には、バインダーや分散剤、粘・接着剤などに応用できます。
代表製品名英語
Poly-N-vinylacetamide
用途
水性ポリマー、分散剤、粘・接着剤、エレクトロニクス,電池関連用途
お問い合わせ
機能性化学品事業部 特殊化学品部
TEL :03-6402-5090
FAX :03-5403-5730

エレクトロニクス

N-メチル-2-ピロリドン
NMP
レジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒としてご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
N-methyl-2-pyrrolidone
用途
レジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒など
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
PGME
プロピレングリコールモノメチルエーテル
レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
propyleneglycol monomethyl ether
用途
レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤など
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
PGMEA
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。電子工業用グレードや一般工業用グレードがあります。
代表製品名英語
propyleneglycol monomethyl ether acetate
用途
レジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤など
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®-SE-TW10/A
液晶・半導体の洗浄用高純度溶剤です。本製品を過酸化水素水に添加することで、Ti、W、TiW、TiNの長寿命なエッチングが実現します。
代表製品名英語
Solfine-SE-TW10/A
用途
Ti, W, TiW ,TiNのエッチング
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®フォトレジスト用
フォトレジスト用溶剤
半導体やFPD製造時のフォトリソグラフィー工程で使用される、レジストの溶解力やリンス性に優れた有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
フォトレジスト用溶媒
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®プリント基板用
プリント基板用洗浄剤
フラックス洗浄に適した炭化水素系/グリコールエーテル系の混合有機溶剤です。
代表製品名英語
solfine
用途
プリント基板の洗浄
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
ソルファイン®剥離剤
剥離剤
半導体フォトリソ工程でのドライエッチング時に発生するレジスト変質膜(サイドウォールポリマー、デポ、残渣)を除去するための剥離液です。エッチング装置部品の洗浄にもご使用いただけます。
代表製品名英語
solfine
用途
レジスト変質膜の剥離、半導体製造装置の洗浄
お問い合わせ
情報電子化学品事業部 ソルファイン部
TEL :0834-64-0806
FAX :0834-62-0997
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